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稀土抛光粉沉淀法中的种主要制备方法

稀土抛光粉的生产制备工艺流程中沉淀法,以以稀土可溶盐为原料进行煅烧沉淀,主要方法如碳酸盐法 、碱式盐法、草酸盐法 、氢氧化物、硫酸复盐等。
(1)以碳酸稀土混合物(Ce02含量在45%左右)为原料制备高铈抛光粉工艺:碳酸稀土混合物经过煅烧生成氧化稀土,用酸处理得到 CeO (oH )2沉淀和三价稀土溶液,洗涤 CeO(OH)2沉淀、干燥、煅烧可得到 Ce02含量 98 —99%的高铈抛光粉,表面积 3—5m2/g,平均粒径1.5 —2um ,相对其它抛光粉有极佳的抛光能力,达到320mg/30m in。
(2)氯化稀土用水溶解得氯化稀土溶液,用碱和氧化剂处理得氢氧化铈 ,再用酸处理得铈浓缩液,加入沉淀剂得沉淀物,经过于燥、煅烧、粉碎和分级、混合得到含 CeO2 80%一90%的氯化铈系抛光粉。
(3)以轻稀土氯化物为原料,以硅氟酸及碳酸氢铵为沉淀剂得稀土氟碳酸盐沉淀、水洗、过滤、煅烧、筛球磨分等步骤。所制得的产品颗粒细、均匀、化学活性强、抛光效率高、应用领域广。
(4)采用氯化稀土或分离后的铈富集物为原料,生产的稀土抛光粉质量好,但生产工序多,成本高。一般用硫酸铵、草酸、碳酸钠或碳酸氢铵及氨水作沉淀剂,经过煅烧、分级、过滤、烘干等步骤制得的抛光粉,CeO2片含量在 45% 一55%左右,最佳煅烧温度为 850 —950℃,煅烧时间为 2.5 —3h。但不同沉淀剂制备的抛光粉性能不同,其中以用硫酸铵作沉淀剂,经过碱化、氟硅酸氟化后所制得的抛光粉其抛蚀量最好,而以用碳酸氢铵及氨水作为沉淀剂、加水煮沸、氟硅酸氟化后所制得的抛光粉其抛蚀量最差。

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